磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/05/17 07:45:44
磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上.后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.

磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别

磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上.
后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.