离子镀怎么度的

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/05/11 14:58:15
离子镀怎么度的离子镀怎么度的离子镀怎么度的离子镀是真空镀膜工艺的一项新发展.普通真空镀膜(亦称真空蒸镀)时,工件夹固在真空罩内,当高温蒸发源通电加热后,促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发.由于温升,蒸发料

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离子镀是真空镀膜工艺的一项新发展.普通真空镀膜(亦称真空蒸镀)时,工件夹固在真空罩内,当高温蒸发源通电加热后,促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发.由于温升,蒸发料粒子获得一定动 离子镀
能,则沿着视线方向徐徐上升,最后附着于工件表面上堆积成膜.用这种工艺形成的镀层,与零件表面既无牢固的化学结合,有无扩散连接,附着性能很差,有时就像桌面上落的灰尘一样,用手一摸也会擦掉.然而,离子镀工艺则有所不同,虽然也是在真空罩内进行的,但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的.也就是说,蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面.相当于一个从枪管中射出的高速弹头,可以穿入靶体很深,在工件上形成一种附着牢固的扩散镀层.  离子镀的作用过程如下:蒸发源接阳极,工件接阴极,当通以三至五千伏高压直流电以后,蒸发源与工件之间产生辉光放电.由于真空罩内充有惰性氩气,在放电电场作用下部分氩气被电离,从而在阴极工件周围形成一等离子暗区.带正电荷的氩离子受阴极负高压的吸引,猛烈地轰击工件表面,致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出,从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗.随后,接通蒸发源交流电源,蒸发料粒子熔化蒸发,进入辉光放电区并被电离.带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同氩离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层.这就是离子镀的简单作用过程.
编辑本段特点
镀层附着性能好
  普通真空镀膜时,蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀,在工件表面与镀层之间,形成的界面扩散深度通常仅为几百个埃(10000埃=1微米=0.0001厘米).也就是说比一根头发丝的百分之一还要小.两者间可以说几乎没有连接的过渡层,好似截然分开.而离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能.如果说普通真空镀膜的粒子相当于一个气喘吁吁的长跑运动员,那么离子镀的粒子则好似乘坐了高速火箭的乘客,当其高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特别牢.对离子镀后的试件作拉伸试验表明,一直拉到快要断裂时,镀层仍随基体金属一起塑性延伸,无起皮或剥落现象发生.可见附着得多么牢固啊!
绕镀能力强
  离子镀时,蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动,因而凡是有电场存在的部位,均能获得良好镀层,这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层优越得多.因此,这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝.等其他方法难镀的部位.用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方.
镀层质量好
  离子镀的镀层组织致密、无针孔、无气泡、厚度均匀.甚至棱面和凹槽都可均匀镀复,不致形成金属瘤.象螺纹一类的零件也能镀复,由于这种工艺方法还能修补工件表面的微小裂纹和麻点等缺陷,故可有效地改善被镀零件的表面质量和物理机械性能.疲劳试验表明,如果处理得当,工件疲劳寿命可比镀前高百分之二、三十.
清洗过程简化
  现有镀膜工艺,多数均要求事先对工件进行严格清洗,既复杂又费事.然而,离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用,并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程.清洗效果极好,能使镀层直接贴近基体,有效地增强了附着力,简化了大量的镀前清洗工作.
可镀材料广泛
  离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应.然而,整个工件,特别是工件心部并未受到高温的影响.因此这种镀膜工艺的应用范围较广,受到的局限性则较小.通常,各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复.即可在金属工件上镀非金属或金属,也可在非金属上镀金属或非金属,甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等.

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