复杂面磁控溅射镀膜厚度能一致吗?
来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/05/15 11:25:59
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复杂面磁控溅射镀膜厚度能一致吗?
复杂面磁控溅射镀膜厚度能一致吗?
复杂面磁控溅射镀膜厚度能一致吗?
磁控溅射很难达到一致,镀膜时溅射的分子级微粒大部分是直接从靶材射到工件上的,如果有凹陷或者突起,斜面上厚度小于平面,这个是无法避免的,好像蒸发镀膜方式,采用游星回转方式会好很多.
我不知道您实际使用的是莱宝什么型号的设备,镀6nm是可以实现,但是需要注意控制好挡板的开关,尽量快速uad同时保持好膜料的一致性,放低蒸发速率,比如0.15nm/shlpt真空的控制也很重要,但是现在一般都是采用apc控制,这点不算太难反正一句话,参与蒸发的工艺条件都尽可能的保持一致,这样可以得到较好的重复性...
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我不知道您实际使用的是莱宝什么型号的设备,镀6nm是可以实现,但是需要注意控制好挡板的开关,尽量快速uad同时保持好膜料的一致性,放低蒸发速率,比如0.15nm/shlpt真空的控制也很重要,但是现在一般都是采用apc控制,这点不算太难反正一句话,参与蒸发的工艺条件都尽可能的保持一致,这样可以得到较好的重复性
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复杂面磁控溅射镀膜厚度能一致吗?
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