直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十

来源:学生作业帮助网 编辑:六六作业网 时间:2024/05/07 15:45:31
直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十

直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
直流磁控溅射问题
用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十分钟,放另一块同类靶材可以做的时间长一点,但是不知道什么原因会这样漂,而且电流最大只能200mA,如何提高电流?

直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
虽然不知道你说的ZO是什么材料,从你描述的现象里看应该是靶中毒.明显你的靶材导电性不好,另一块靶材可能掺Al更加均匀,所以溅射时间长一些.

直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十 作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉.作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉,而且调节溅射电压时,电压不变,电流却急剧增大,请问是有什么原因引起?该如何解决?(氩气调节至400sccm) 真空蒸镀与溅射镀膜优缺点蒸镀用的是环形电子枪加热,溅射用的是平面磁控溅射.麻烦说一下这两种镀膜方式各自优缺点 直流磁控溅射 射频磁控溅射 不同的原因 磁控溅射靶在溅射薄膜时靶没有辉光,电压在800伏,其他情况都正常.怎么回事? 直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊 运用磁控溅射方法,在金丝(Au)上溅射一层金属锌膜,需要什么样的溅射条件啊?溅射条件,比如压强、真空度、功率,时间等等等等. 磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和交流磁控溅射法还有射频磁控溅射 非平衡磁控溅射 真空磁控溅射ITO的最佳靶基距,硅靶中频反应溅射SIO2的最佳靶基距. 怎样把玻璃表面镀好的钛膜氧化成二氧化钛?我先用磁控溅射往玻璃表面溅射了钛,现在想把钛变成二氧化钛,请问有什么方法吗? 磁控溅射Cu的时候,基底温度大概有多少度?要是溅射铝呢?能不能在塑料上溅射铜呢? 直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?粘贴无效哈 真空溅射镀膜机镀铝靶我的真空溅射镀膜机镀Ag时正常,用兆欧表测绝缘电阻为0.1兆欧.换铝靶后,绝缘电阻为0.3兆欧,功率加不上去,从小到大逐步调节功率,每次溅射正常,到要求值后溅射正常.三 磁控溅射设备 用什么靶材能镀出红色? 真空镀膜的一些问题?PVD:物理气象沉积,离子溅射镀膜里的分子泵、规管都是干什么用的? 等离子体溅射 什么是等离子体溅射? 磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值? 磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?